條件：
須同時(shí)滿足以下7個(gè)條件：
1.屬于國(guó)家重點(diǎn)支持的高新技術(shù)領(lǐng)域;或者已通過綜合創(chuàng)新形成自己的創(chuàng)新模式，取得了核心競(jìng)爭(zhēng)力;
2.注冊(cè)滿一年以上的市內(nèi)的非高新技術(shù)企業(yè)；
3近 3 年內(nèi)企業(yè)通過自主研發(fā)、受讓、受贈(zèng)、并購(gòu)等方式擁有的知識(shí)產(chǎn)權(quán)數(shù)量達(dá)到下列其中一項(xiàng)要求：
(1)發(fā)明專利授權(quán)或集成電路布圖設(shè)計(jì)專有權(quán)或植物新品種權(quán) 1 件或以上;
(2)實(shí)用新型專利授權(quán) 2 件或以上;
(3)外觀設(shè)計(jì)專利授權(quán)(要求為非簡(jiǎn)單改變產(chǎn)品圖案和形狀)、軟件著作權(quán)或集成電路布圖設(shè)計(jì)專有權(quán)總數(shù)3件或以上。
4.具有大專以上學(xué)歷的科技人員占企業(yè)當(dāng)年職工總數(shù)的15%以上，其中研發(fā)人員占企業(yè)職工總數(shù)的5%以上。
5.近兩個(gè)會(huì)計(jì)年度（不足兩年的按照實(shí)際經(jīng)營(yíng)年限計(jì)算）的研究開發(fā)費(fèi)用總額占銷售收入總額的比例不低于 3%(其中，企業(yè)在廣東省內(nèi)發(fā)生的研究開發(fā)費(fèi)用占全部研究開發(fā)費(fèi)用總額的比例不低于 60%;
6.經(jīng)營(yíng)情況滿足以下條件之一：
(1)上一年度高新技術(shù)產(chǎn)品(服務(wù))收入占企業(yè)當(dāng)年總收入的 40%以上;
(2)上一年度企業(yè)年度銷售收入增長(zhǎng)率在 40%以上。
7.具有一定的研發(fā)組織、財(cái)務(wù)管理水平，已設(shè)立研究開發(fā)費(fèi)輔助核算賬或?qū)Ｙ~。
補(bǔ)貼標(biāo)準(zhǔn)：20萬元補(bǔ)貼、提供企業(yè)形象、宣傳推廣
申報(bào)時(shí)間：企業(yè)成立1年以上
收取費(fèi)用：補(bǔ)貼到賬總額的20%
條件：
須同時(shí)滿足以下7個(gè)條件：
1.屬于國(guó)家重點(diǎn)支持的高新技術(shù)領(lǐng)域;或者已通過綜合創(chuàng)新形成自己的創(chuàng)新模式，取得了核心競(jìng)爭(zhēng)力;
2.注冊(cè)滿一年以上的市內(nèi)的非高新技術(shù)企業(yè)；
3近 3 年內(nèi)企業(yè)通過自主研發(fā)、受讓、受贈(zèng)、并購(gòu)等方式擁有的知識(shí)產(chǎn)權(quán)數(shù)量達(dá)到下列其中一項(xiàng)要求：
(1)發(fā)明專利授權(quán)或集成電路布圖設(shè)計(jì)專有權(quán)或植物新品種權(quán) 1 件或以上;
(2)實(shí)用新型專利授權(quán) 2 件或以上;
(3)外觀設(shè)計(jì)專利授權(quán)(要求為非簡(jiǎn)單改變產(chǎn)品圖案和形狀)、軟件著作權(quán)或集成電路布圖設(shè)計(jì)專有權(quán)總數(shù)3件或以上。
4.具有大專以上學(xué)歷的科技人員占企業(yè)當(dāng)年職工總數(shù)的15%以上，其中研發(fā)人員占企業(yè)職工總數(shù)的5%以上。
5.近兩個(gè)會(huì)計(jì)年度（不足兩年的按照實(shí)際經(jīng)營(yíng)年限計(jì)算）的研究開發(fā)費(fèi)用總額占銷售收入總額的比例不低于 3%(其中，企業(yè)在廣東省內(nèi)發(fā)生的研究開發(fā)費(fèi)用占全部研究開發(fā)費(fèi)用總額的比例不低于 60%;
6.經(jīng)營(yíng)情況滿足以下條件之一：
(1)上一年度高新技術(shù)產(chǎn)品(服務(wù))收入占企業(yè)當(dāng)年總收入的 40%以上;
(2)上一年度企業(yè)年度銷售收入增長(zhǎng)率在 40%以上。
7.具有一定的研發(fā)組織、財(cái)務(wù)管理水平，已設(shè)立研究開發(fā)費(fèi)輔助核算賬或?qū)Ｙ~。
補(bǔ)貼標(biāo)準(zhǔn)：20萬元補(bǔ)貼、提供企業(yè)形象、宣傳推廣
申報(bào)時(shí)間：企業(yè)成立1年以上
收取費(fèi)用：補(bǔ)貼到賬總額的20%